荷兰光刻设备商ASML(ASML.US) 表示,公司已找到提升关键晶片制造设备光源功率的方法,目标於本年代结束前把晶片产量提高最多50%。
ASML是全球唯一商用极紫外光刻(EUV)设备制造商,ASML NXE系列EUV设备执行副总裁Teun van Gogh表示,公司希望客户能以更低成本持续使用EUV。他预计,到本十年末,每台设备每小时可处理约330片晶圆,高於目前约220片。(me/s)(美股为即时串流报价; OTC市场股票除外,资料延迟最少15分钟。)
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